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      等離子清洗機
      
            
            
      0755-81478611EN
          
            
      
                
            
      
            
        
      
 
      

    
      
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      等離子清洗機的處理，能否提高芯片的焊接質量呢?
      
            
      作者：等離子清洗機發表時間：2022-06-21 17:24:31瀏覽量：1449【小中大】
      
            
      等離子清洗：等離子體包括正負電荷和亞穩態的分子和原子等。一方面，當各種活性粒子與被清洗物體表面相互接觸時，各種活性粒子與物體表面雜質發生化學反應，形成揮發性氣體等物質，然后揮發性物質被真空泵吸走。
      
            
      文本標簽：等離子清洗機 
      
            
      
	　　等離子清洗：等離子體包括正負電荷和亞穩態的分子和原子等。一方面，當各種活性粒子與被清洗物體表面相互接觸時，各種活性粒子與物體表面雜質發生化學反應，形成揮發性氣體等物質，然后揮發性物質被真空泵吸走。
      

      

      
 　　附著在產品表面封裝過程中的質量直接影響產品的質量，而整個封裝過程中最大的問題就是附著在產品表面的污染物。
      

      

      
 　　對于污染物的不同，等離子清洗可以應用在每個過程的前面。一般分布在粘合前、引線鍵前、塑料密封前等。
      

      

      
 　　伴隨著半導體光電行業的快速發展趨勢，促使制造行業追求完美、高精密度、高性能及高品質等要求。
      

      

      
	
      
		等離子清洗機
	
      

      
 　　在半導體封裝工藝生產過程中，半導體器件商品表層會附著著各種顆粒物等污漬雜質，產品表面殘留的污染物，如不及時處理，則會嚴重危害微電子設備的可靠性和工作中壽命。
      

      

      
 　　由于干法清理方法可以不毀壞芯片表層材料特性，可以除去污染物，因此在諸多清理方法中具備顯著優點，并且等離子體清理效果顯著，具備實際操作簡易、精確可控、全過程無污染及其安全性可靠等特性，在半導體封裝行業得到了大范圍的推廣應用。
      

      

      
 　　由于產品表面殘留污染物的存在，會出現芯片與框架底部之間的銅引線未完成焊接，或者存在虛焊、虛焊或打線強度不足等問題，導致這些問題的主要原因是導線框和晶片表面層的污染物，主要有顆粒污染、氧化層、有機物殘留等。
      

      

      
 　　如何有效解決封裝過程中的顆粒、氧化層等污染物，對提高封裝質量至關重要。具體可以借助等離子清洗處理，等離子清洗技術主要是通過物理轟擊、化學反應等單一或雙重作用的活性等離子體轟擊物質表面，從而從物質表面去除或修飾污染物表面的分子層，能有效去除物質表面的有機殘留物、顆粒污染、氧化薄層等，提高產品工件表面活性，避免粘接或虛焊。
      

      

      
 　　等離子清洗機的處理，可以提高焊接質量，增加鍵合強度，提高可靠性，提高質量節約成本。
      

      

      
 　　等離子清洗不僅能大大提高粘接強度等性能，還能避免人為因素導致二次污染，長期接觸引線框架。

      
            
      
                
      
                2022-06-21
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